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時間:2023-09-08等離子增強化學(xué)氣相沉積PECVD的常見應(yīng)用有哪些?2025-08-24
等離子增強化學(xué)氣相沉積PECVD是一種廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造和薄膜沉積技術(shù)中的重要工藝。它通過在低溫下利用等離子體激發(fā)反應(yīng)氣體,以生成所需的薄膜材料。相比傳統(tǒng)的熱化學(xué)氣相沉積(CVD)工藝,PECVD能夠在較低的溫度下實現(xiàn)較高的沉積速率,并且...分子束外延薄膜沉積系統(tǒng)MBE的具體工作過程分析2025-07-20
分子束外延是一種用于制造高質(zhì)量單晶薄膜和量子結(jié)構(gòu)的技術(shù)。MBE技術(shù)的核心在于通過在高真空環(huán)境中,將單一元素或化合物的分子束投射到襯底表面,形成薄膜。廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光電子學(xué)、磁學(xué)以及超導(dǎo)材料的研究與生產(chǎn)中。MBE系統(tǒng)具有高精度控制、優(yōu)秀的...激光直寫光刻機能夠?qū)崿F(xiàn)非常精細的圖案加工2025-06-22
激光直寫光刻機是一種先進的光刻技術(shù)設(shè)備,廣泛應(yīng)用于集成電路(IC)制造、微電子器件的制作及納米加工等領(lǐng)域。與傳統(tǒng)的光刻機相比,能夠通過激光直接在基底上寫入圖案,具有更高的分辨率和靈活性,尤其適用于小批量、高精度的生產(chǎn)需求。激光直寫光刻機的基...脈沖激光沉積鍍膜機PLD常見的應(yīng)用有哪些?2025-05-25
脈沖激光沉積鍍膜機PLD是一種廣泛應(yīng)用于薄膜制備的技術(shù)。它利用高能脈沖激光照射到靶材表面,將靶材蒸發(fā)或激發(fā)成等離子體,進而沉積到基底表面,形成薄膜。PLD技術(shù)因其高精度、高質(zhì)量的薄膜制備能力,廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)、光電器件、薄膜太陽能電池、傳...深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司
深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司是集半導(dǎo)體儀器裝備代理及技術(shù)服務(wù)的高新技術(shù)企業(yè)。致力于提供半導(dǎo)體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導(dǎo)體分析測試設(shè)備、半導(dǎo)體光電測試儀表及相關(guān)儀器裝備維護、保養(yǎng)、售后技術(shù)支持及實驗室整體服務(wù)。公司目前已授實用新型權(quán)利29項,軟件著作權(quán)14項,是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。
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